A szilícium-karbid tranzisztorok gyorsan teret nyertek azokban a nagyteljesítményű elektronikai alkalmazásokban, amelyek magasabb feszültségű félvezető eszközöket igényelnek, mivel számos olyan kulcsfontosságú tulajdonsággal rendelkeznek, amelyek révén olyan teljesítményszinteket képesek biztosítani, amelyek más anyagokból készült eszközöknél nem tapasztalhatók.
A szilícium-karbid egy erős anyag, amely széles sávrésű félvezető tulajdonságokkal rendelkezik. Szilícium és szén erős kovalens kötésekkel való egyesüléséből jön létre ez a robusztus anyag.
Magas áttörési elektromos térerősség
A szilícium-karbid egy összetett félvezető anyag, amelynek áttörési elektromos térerőssége nagyobb, mint a szilíciumé. Ez lehetővé teszi számára, hogy olyan körülmények között is működjön, ahol más félvezető anyagok nem képesek, így vonzó választásnak bizonyul a teljesítményelektronikai alkalmazásokhoz.
Bár a tiszta szilícium-karbid elektromos szigetelőként viselkedik, elektromos vezetőképessé tehető olyan szennyezőanyagok – például alumínium, bór és gallium – szabályozott hozzáadásával, amelyek az eszközök gyártásához szükséges P-típusú és N-típusú régiókat hoznak létre. Ennek eredményeként ezek az eszközök szélesebb működési feszültségtartománnyal rendelkeznek, mint a hagyományos IGBT-k és a bipoláris tranzisztorok.
A szilícium-karbid nemcsak nagy feszültségű alkalmazásokra alkalmas, hanem széles üzemi hőmérsékleti tartománnyal és kiváló hővezető képességgel is rendelkezik, ami alkalmassá teszi magas hőmérsékletű kapcsolási alkalmazásokra. Ezen felül a szilícium-karbid a szilíciumhoz képest háromszor nagyobb sávrésszélességgel büszkélkedhet, ami alacsonyabb hordozókoncentrációt és kiváló kapcsolási teljesítményt eredményez.
A SiC MOSFET-ek abban különböznek jelentősen a szilícium alapú társaiktól, hogy alacsonyabb bekapcsolási ellenállással és kapcsolási veszteségekkel rendelkeznek, ugyanakkor rendkívül hatékonyak, gyorsabb reakcióidőt biztosítanak, és számos teljesítményelektronikai alkalmazásban alkalmasak a meglévő alkatrészek cseréjére. Nagyfrekvenciás alkalmazásokban helyettesíthetik az IGBT-ket és a hagyományos teljesítmény-MOSFET-eket, miközben képesek kezelni azokat a magasabb szintű tranziensek is, amelyek egyébként károsodást okoznának.
Magas hőmérsékletű üzemeltetés
A szilícium-karbid tranzisztorok széles sávrésének köszönhetően – a széles elektroncsatorna-képességük révén – magasabb üzemi hőmérsékleteket képesek elviselni, mint szilícium-alapú társaik. Ellenkező esetben a magas hőmérséklet kiszorítaná az elektronokat a vezetési sávból, és olyan áramokat okozna, amelyek megzavarnák a logikai műveleteket – ez a probléma azonban nem merül fel a szilícium-karbid széles sávrésének köszönhetően, amely az elektronokat hatékonyabban mozgatja, mint a szilícium-tranzisztorok.
A Case Western Reserve Egyetem kutatói nemrégiben egy lenyűgöző kísérletet hajtottak végre, amelynek során a szilícium-karbid MOSFET-ek több mint 105 órán át működtek egy rendkívül forró kemencében, közel 550 °C-os hőmérsékleten – ezzel messze meghaladva a legtöbb teljesítményelektronikai alkalmazás minimális üzemi hőmérsékleti követelményeit.
A kutatók létrehoztak egy MOSFET-et, amely N-drift réteggel, N+ forrásrégióval, árokkapuval, fém drén- és tápelektródákkal, valamint N+ forrásrégióval rendelkezik; ezt a konfigurációt gyakran sík DMOS-eszköznek nevezik. Ezt követően negatív élvezérelt D-flip-flop áramkörökkel végeztek teszteket, amelyek felismerik a váltakozó áramú jel negatív tranzienseit, és összehasonlítják azokat a pozitív tranziensekkel, így létrehozva egy olyan negatív élvezérelt D-flip-flop áramkört, amely valós időben rögzíti a pozitív tranziensekhez viszonyított negatív tranzienseket.
Megállapították, hogy a chip rendkívül jól teljesített szélsőséges körülmények között: 470 °C-on 95 órányi működés után csupán egy bit hibásodott meg. Ez arra utal, hogy a chip felhasználható lenne különböző, magas hőmérsékletet igénylő alkalmazásokban – ideértve az elektromos járművek töltőit és a magas hőmérsékleten működő berendezéseket is.
Alacsony kapcsolási veszteségek
A szilícium-karbid (SiC) eszközök egyre népszerűbb választássá váltak a legfontosabb teljesítményelektronikai alkalmazásokban, ideértve a hálózati minőségű napenergia-fotovoltaikus áramot egyenárammá alakító invertereket, az áramtárolási célokra szolgáló ipari váltakozó-egyenáramú átalakítókat, valamint az elektromos járművek töltőit. Ez a tendencia annak köszönhető, hogy a SiC-eszközök képesek nagyobb feszültségeket kezelni kisebb veszteségek mellett, mint a hagyományos szilícium félvezetőkből készült társaik – ezáltal jelentősen növelve a teljesítményátalakító rendszerek hatékonyságát.
A tiszta SiC szigetelőanyag, de ha olyan szennyezőanyagokkal dúsítják, mint az alumínium, a gallium vagy a bór, akkor elektromosan vezetővé válik, és könnyebben vezeti az áramot. Ezeket a dúsítóanyagokat ezután szilícium-hordozókra lehet felvittetni, így szilícium-karbid fém-oxid-félvezető térhatású tranzisztorok (SiC MOSFET) állíthatók elő.
A SiC MOSFET-ek magas áttörési elektromos térerőssége ideálissá teszi őket olyan keménykapcsolású topológiákhoz, mint az LLC és a ZVS, amelyekben az eszközök nagy frekvencián kapcsolnak be és ki. Ezen felül a SiC MOSFET-ek alacsony kapcsolási veszteségekkel rendelkeznek, ami lehetővé teszi a tervezők számára, hogy csökkentsék a kondenzátorok és induktorok méretét a terveikben, miközben csökken a rendszer teljes költsége. Ezen felül a magasabb hőmérsékleten történő üzemeltetésük segít minimalizálni az energiaveszteséget, miközben növeli a rendszer hatékonyságát.
Hosszú élettartam
A szilícium-karbid (SiC) teljesítményelemek kiemelkedő élettartamukkal tűnnek ki, mivel magasabb hőmérsékleteket, feszültségeket és frekvenciákat, mint a szilícium-alapú félvezetők – amelyek bizonyos körülmények között gyakran korán meghibásodnak –, így ezek a robusztus eszközök ideálisak kemény és rezonáns kapcsolási topológiákhoz, mint például az LLC és a ZVS, valamint egyéb nagy teljesítményű áramköri kialakításokhoz is, alacsony bekapcsolt állapotú veszteségeiknek és energiaátalakítási hatékonyságuknak köszönhetően. Ez teszi a SiC-eszközöket rendkívül vonzóvá.
A SiC egyedülálló atomi szerkezete lehetővé teszi, hogy váltakozó tulajdonságú félvezetőként viselkedjen, mivel sávszélessége csaknem háromszor nagyobb, mint a hagyományos szilícium-félvezetőké – így jönnek létre a széles sávszélességű anyagok, mint például a SiC.
A SiC kiemelkedő hővezető képességével és rövid hűtési útjaival tűnik ki, ami összességében kisebb teljesítményveszteséget eredményez. Ezen felül magas áttörési feszültsége lehetővé teszi a tervezők számára, hogy a teljesítmény vagy a megbízhatóság romlása nélkül kisebb méretű eszközöket készítsenek.
Bár a hagyományos szilícium-alapú eszközök továbbra is az iparági szabványt jelentik a teljesítményelektronika területén, a kormányok részéről a kibocsátáscsökkentésre irányuló egyre nagyobb nyomás, valamint a tisztán elektromos járművek (BEV) növekvő népszerűsége arra készteti a vállalatokat, hogy olyan alternatív anyagokat vizsgáljanak meg, mint a SiC és a GaN, amelyek kiváló tulajdonságokkal rendelkeznek, és így helyettesíthetik a szilíciumot az elektromos járművek különböző alkatrészeiben.